نام كاربري:      
 رمز عبور:      
هنوز در سايت عضو نشده‌ايد؟
صفحه اصلي | RSS | ثبت نام | ورود به سايت | نقشه سایت
آرايش ماسک‌هاي ليتوگرافي
خلاصه خبر: اخيراً محققان آمريکايي و سنگاپوري يک ماسک ليتوگرافي نانوساختار قابل تنظيم ساخته‌اند که از نانوذرات خودآرا تشکيل مي‌شود.
تصویر در اندازه واقعی
مشروح خبر: اخيراً محققان آمريکايي و سنگاپوري يک ماسک ليتوگرافي نانوساختار قابل تنظيم ساخته‌اند که از نانوذرات خودآرا تشکيل مي‌شود. اين محققان توانستند از ميدان مغناطيسي براي کنترل آرايش نانوذرات، و در نتيجه شکل ماسک استفاده کرده و شکل‌هاي مختلفي را الگودهي کنند. اين راهکار جديد مي‌تواند راه را براي توسعه ابزارهاي نانوتوليد مقرون به صرفه، مقياس‌پذير و چندکاره باز کند.

در اين راهکار جديد که ليتوگرافي فروسيال خودآرا (SAFLi) ناميده مي‌شود، از نانوذرات اکسيد آهن به قطر حدود 10 نانومتر در يک محلول سيال استفاده مي‌شود؛ اين محلول که فروسيال ناميده مي‌شود، به‌عنوان يک ماسک ليتوگرافي ديناميک عمل مي‌کند. زماني که يک ميدان مغناطيسي خارجي به اين ذرات پخش شده به صورت نامنظم در سيال اعمال مي‌شود، آنها خودآرايي کرده و ساختارهاي منظمي ايجاد مي‌کنند.

در اين سامانه که توسط اين گروه از محققان پيشنهاد شده است، کانال‌هاي ميکروسيالي موجود روي فيلم فتورزيستيو، فروسيال را محدود مي‌کند و سپس اين فيلم در معرض نور ماوراي بنفش قرار مي‌گيرد. ذرات آرايش يافته روي فيلم، جذب نوري بالايي داشته و به‌عنوان ماسک ليتوگرافي عمل مي‌کنند و در نتيجه الگوي شکل گرفته را روي فيلم پليمري منتقل مي‌نمايند. با تنظيم ميدان مغناطيسي خارجي، امکان کنترل الگوي آرايشي و در نتيجه شکل هندسي ايجاد شده وجود دارد.

اين گروه از محققان توانسته‌اند با استفاده از اين راهکار يک آرايه ميکرونقطه‌اي با قابليت تنظيم فاصله بين نقاط، و يک الگوي ميکروحلقه‌اي به قطر 250 نانومتر ايجاد کنند. آنها تلاش خواهند کرد با استفاده از اين روش الگوهاي پيچيده‌تر با شکل‌هاي کوچک‌تر ايجاد کنند.

جزئيات اين پژوهش در مجله Nanotechnology منتشر شده است.



منبع: ستاد توسعه فناوری نانو

»  نوشته شده توسط گروه خبر نانوسان

Bookmark and Share
  تاریخ درج خبر: 23/12/1388                بازدیدها: 38                تعداد نظرات: 0

» اخبار مرتبط

 
نظرات:
پاسخ به:
عنوان شما:
نظر: